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  • 微波等离子去胶机 ICP RPS

    详细摘要： 达因特半导体微波等离子去胶机ICP RPS是一种低压微波等离子去胶系统，应用于晶圆光刻胶去胶、晶圆表面活化。自由运动的电子产生Plasma进入腔体所在的料盒进行...

    产品型号： 所在地：东莞市 更新时间：2024-04-19 在线留言

  • 微波等离子去胶机-半导体/芯片除胶

    详细摘要： 微波等离子去胶机-半导体/芯片除胶自由基分子的等离子体无偏压，无电性损坏；产品可放在托盘、开槽或封闭的Magizine，处理效率高；Magizine可配置旋转架...

    产品型号： 所在地：东莞市 更新时间：2024-04-19 在线留言

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